真空氣氛爐

用途概述

QVK、QVS、QVB系列真空氣氛爐又稱無氧退火爐、真空氣氛燒結(jié)爐，該設(shè)備是真空與熱處理相結(jié)合的新型熱處理技術(shù)，真空熱處理所處的真空環(huán)境指的是低于一個(gè)大氣壓的氣氛環(huán)境，包括低真空、中等真空、高真空和超高真空，真空熱處理實(shí)際也屬于氣氛控制熱處理。真空熱處理是指熱處理工藝的全部或部分在真空狀態(tài)下進(jìn)行的，實(shí)現(xiàn)幾乎所有的常規(guī)熱處理所能涉及的熱處理工藝，可實(shí)現(xiàn)無氧化、無脫碳、無滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達(dá)到表面光亮凈化的效果。廣泛用于高等院校和科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)對(duì)鋼鐵、有色金屬及其合金的熔煉、精煉、連鑄和熱處理、陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材、金屬、非金屬及其它合化物材料進(jìn)行燒結(jié)﹑融化﹑分析、生產(chǎn)而研制的專用設(shè)備。

產(chǎn)品特點(diǎn)

QVK、QVS、QVB系列真空氣氛爐

v 一體式結(jié)構(gòu)，外觀大氣，外殼靜電噴塑工藝，耐高溫，耐腐蝕，經(jīng)久耐用；

v 爐膛內(nèi)升降溫度速率快，溫場均衡，雙層外殼，高性能隔熱材料，表面溫度低,節(jié)能高效；

v 雙層殼體結(jié)構(gòu)，保持爐膛內(nèi)部正壓1MP和負(fù)壓- 0.1MP，分壓壓力在10到1000mbar之間。

v 自動(dòng)化程度較高，控溫精度佳，可設(shè)置多段程序，可編程各種升溫、保溫、降溫程序；

v 具有超溫、超壓、超流、漏電、短路保護(hù)，熱電偶損壞斷電、內(nèi)置參數(shù)密碼控制等功能；

v 控制系統(tǒng)采用微電腦人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、模糊控制、自動(dòng)控制、自整定功能。

v 氣路系統(tǒng)由各種進(jìn)氣和控制裝置組成，集成模塊可控硅控制、移相觸發(fā)，保護(hù)系統(tǒng)；

v 標(biāo)配真空泵及壓力表，真空系統(tǒng)可在熱處理前抽出爐膛內(nèi)的氧氣，快速形成潔凈的氣氛環(huán)境；

v 采用流量計(jì)控制進(jìn)氣流量，爐膛內(nèi)可采用外部空氣自然冷卻或?qū)⒍栊詺怏w充入爐膛內(nèi)冷卻。

技術(shù)參數(shù)